Auf die aktuelle 10-Nanometer-Generation sollen Chips mit Strukturbreiten von 8 Nanometern folgen. Danach wird Samsung die Strukturen in 1-Nanometer-Schritten verkleinern. Das dafür benötigte neue Lithografieverfahren namens Extreme Ultra Violet entwickelt Samsung zusammen mit ASML.
Quelle: ZDNet.de – Samsung erläutert Pläne für 4-nm-Fertigung
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